InSb是一种重要的化合物半导体,主要用于制作远红外光电探测器、霍耳器件和磁阻器件。
生长方法
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提拉法
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晶体结构
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立方
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晶格常数(nm)
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0. 648
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晶向
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<100>、<110>、<111>±0.5º、或特殊方向
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掺杂程度
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掺杂元素
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不掺杂
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掺Te
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掺Ge
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导电类型
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N
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N
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P
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带隙(eV)
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0.18
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电阻率(Ω·cm)
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迁移率(cm2/(v·s))
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载流子密度(/cm3)
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1~5×1014
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1~2×1015
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位错密度(EPD)(/cm2)
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<2×102
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尺寸
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Φ2″×0.5可按照客户需求,定制特殊方向和尺寸
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表面
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单抛片、双抛片、或切割片
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厚度(um)
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Φ2″×0.5mm、Φ3″×0.5mm,可定制
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TTV (Total Thickness
Variation)
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TIR (Total Indicated
Reading)
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Bow
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Warp
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包装
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100级洁净袋,1000级超净室
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